أهداف الهافنيوم

أهداف الهافنيوم مصنوعة من معدن الهافنيوم عالي النقاء ولها توصيل حراري جيد وقوة ميكانيكية وثبات كيميائي. تُستخدم أهداف الهافنيوم على نطاق واسع في الترسيب الفيزيائي للتبخر، ورش المغنطرون وغيرها من التقنيات لإعداد مجموعة متنوعة من مواد الأغشية الرقيقة، مثل الأكاسيد والنيتريدات ومبيدات السيليكات والمعادن. في صناعة أشباه الموصلات، تُستخدم أهداف الهافنيوم بشكل شائع لتحضير مواد الأغشية الرقيقة مثل السيليكون ونيتريد السيليكون والألومينا والزركونيا. تلعب هذه المواد الرقيقة دورًا مهمًا في أجهزة أشباه الموصلات، مثل تحسين استقرار الجهاز وأدائه. في صناعة شاشات العرض، تُستخدم أهداف الهافنيوم بشكل شائع لإعداد مواد قطبية شفافة مثل أكسيد القصدير الإنديوم (ITO) وأكسيد الزنك (ZnO). تلعب أهداف الهافنيوم دورًا مهمًا في تصنيع أشباه الموصلات وشاشات العرض نظرًا لنقاوتها العالية وخصائصها الجيدة. سيستمر الطلب على أهداف الهافنيوم في النمو مع تطور الصناعة.

إرسال التحقيق

مقدمة المنتج

عملية تحضير هدف الهافنيوم

تحضير معدن الهافنيوم: معدن الهافنيوم هو المادة الخام لمادة الهافنيوم المستهدفة، والتي يجب تحضيرها عن طريق تقليل رابع كلوريد الهافنيوم أو فلوريد الهافنيوم. معالجة معدن الهافنيوم: تتم معالجة معدن الهافنيوم إلى الشكل والحجم المطلوبين، عادةً عن طريق الحدادة والتمدد والقطع وطرق المعالجة الأخرى. تنظيف مادة الهافنيوم المستهدفة: قم بتنظيف الشوائب والأكاسيد الموجودة على سطح مادة الهافنيوم المستهدفة للتأكد من نقاء المادة.

معالجة واختبار مادة الهافنيوم المستهدفة: قم بإذابة شريط الهافنيوم المتبلور في سبيكة، ثم قم بمعالجة السبيكة في المادة المستهدفة بالشكل والحجم المطلوبين، ثم اختبر بدقة النقاء وحجم الحبوب للتأكد من جودة مادة الهافنيوم المستهدفة يلبي المتطلبات. ما سبق هو الخطوات الرئيسية في تحضير مادة الهافنيوم المستهدفة. قد تكون عملية التحضير من مختلف الشركات المصنعة مختلفة، ولكنها تعتمد بشكل عام على الخطوات المذكورة أعلاه.

خصائص أهداف الهافنيوم

الهافنيوم شكل الهدف	هدف مسطح، تخصيص ذو شكل خاص
الهافنيوم الهدف النقاء	99.95%
ماركة	يوشينغ ميتال
علامة تجارية	HF1
أصل	باوجى الصين
حجم الهدف الهافنيوم	تتم معالجتها وفقًا للرسومات أو حسب الطلب من قبل الآخرين

منتجاتنا

هدف الهافنيوم

سبائك الهافنيوم

هدف الهافنيوم

مواصفات المنتج التقليدية لشركة Yusheng Metal:
أ. جسيمات الهافنيوم (الهافنيوم البلوري) قطرها 2* (2.5-5ملم)، منها Zr أقل من أو يساوي 1.5%

ب. جزيئات الهافنيوم (هافنيوم الزركونيوم المنخفض) ذات نقاء تقليدي أكبر من أو يساوي 99.95%، منها Zr<0.5%

ج. جزيئات الهافنيوم ( الهافنيوم الاسفنجي ) درجة نقاء تقليدية أكبر من أو تساوي 99.4% منها Zr<2%

د. نقاء مادة الهافنيوم المستهدفة أكبر من أو يساوي 99.9% (بما في ذلك الزركونيوم)، نقاء أكبر من أو يساوي 99.95% (بما في ذلك الزركونيوم)، المواصفات والأحجام: هدف دائري، هدف مربع، هدف أنبوبي، وما إلى ذلك (يمكن تخصيص الحجم)

ه. نقاء مسحوق الهافنيوم أكبر من أو يساوي 99.9% (بما في ذلك الزركونيوم)، نقاء أكبر من أو يساوي 99.95% (بما في ذلك الزركونيوم)، الحجم: -300 شبكة.

تركز شركة Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd. على البحث والتطوير وإنتاج أهداف رش الطلاء عالية النقاء ومواد أفلام الطلاء عالية النقاء.
مع أكثر من عشر سنوات من الخبرة في مجال بحث وتطوير المواد وتطبيقها، بالإضافة إلى معدات الإنتاج الأكثر تقدمًا، يمكنها توفير أهداف معدنية ومواد غشاء وأهداف سبائك عالية النقاء ومواد غشاء.

سيتم استخدام المنتجات بما في ذلك بوتقات طلاء التبخر المختلفة وقوارب التبخر وغيرها من الملحقات على نطاق واسع في مجالات أشباه الموصلات، والبصريات الدقيقة، والأشعة تحت الحمراء بالليزر، والطاقة الشمسية ذات الأغشية الرقيقة، وشاشات اللمس، والزجاج الوظيفي، وطلاء الأسطح، وما إلى ذلك. جميع الشركات الكبرى و نرحب بمؤسسات البحث العلمي للعمل معًا والتعاون مع بعضها البعض لتوفير حلول مواد الطلاء الشاملة وتقديم الدعم الفني المادي. إذا كان لديك أي احتياجات، يرجى الاتصال مباشرة: