يصف مصطلح "هدف الرش" مصدر الرش الذي يتم رشه وترسيبه على ركيزة بواسطة رش المغنطرون، أو الطلاء الأيوني متعدد القوس، أو أنواع أخرى من معدات الطلاء في ظل ظروف العملية المناسبة لإنشاء أغشية رقيقة وظيفية مختلفة. يتم استخدام أهداف الرش على نطاق واسع تُستخدم في مجموعة متنوعة من الصناعات، بما في ذلك الخلايا الشمسية وشاشات العرض المسطحة وأشباه الموصلات والإلكترونيات المسطحة والأدوات والزجاج والتطبيقات الزخرفية. في مختلف المجالات، هناك حاجة إلى مواد مستهدفة متميزة.
إعداد الهدف المحترق
وفقا لهذا الإجراء، يمكن تقسيم إعداد المواد المستهدفة الاخرق إلى فئتين: تعدين المساحيق والصب المنصهر. يجب التحكم بعناية في الظروف التي يتم فيها تسخين المادة أثناء عملية المعالجة الحرارية وكذلك تقنيات المعالجة اللاحقة بالإضافة إلى نقاء المادة وكثافتها وحجمها الحبيبي واتجاهها البلوري. يتحكم.
1. تشغيل المعادن بالمساحيق
من أجل إعداد الأهداف بنجاح باستخدام تعدين المساحيق، من المهم: (1) اختيار مسحوق عالي النقاء وفائق الدقة كمواد خام؛ (2) اختيار تقنية التشكيل والتلبيد التي يمكنها تحقيق التكثيف السريع من أجل ضمان انخفاض مسامية الهدف والتحكم في حجم الحبوب؛ و (3) المراقبة الصارمة لإدخال عناصر الشوائب.
2. نهج الصب ذوبان
إحدى التقنيات الأساسية لإنشاء أهداف الرش هي عملية صب الصهر. عادةً ما يتم صهر وصب السبائك تحت فراغ أو جو وقائي للتأكد من أن محتوى عنصر الشوائب منخفض قدر الإمكان. ومع ذلك، هناك قدر معين من المسامية بالداخل لا يمكن تجنب الإطار المادي أثناء عملية الصب. سوف تتأثر جودة الفيلم المرشوش بهذه المسام لأنها ستتسبب في تشتت الجزيئات أثناء عملية الرش. ولتقليل نفاذيته، هناك حاجة إلى إجراءات معالجة حرارية إضافية ومعالجة حرارية.
