المادة المستهدفة لها سوق واسعة، ومجموعة متنوعة من الاستخدامات المفيدة، ومستقبل واعد. دعنا نتناول بسرعة متطلبات الأداء الأساسية للمادة المستهدفة بالنسبة لك حتى تتمكن من فهم أداء المادة بشكل أفضل. وآمل مخلصا أن يكون مفيدا لك.
النقاء: لأن نقاء الهدف له تأثير كبير على أداء الفيلم، فإن النقاء هو أحد مقاييس الأداء الأساسية للهدف. ومع ذلك، تختلف معايير نقاء المادة المستهدفة في التطبيقات العملية. على سبيل المثال، حجم السيليكون زادت الرقائق من 6''، 8'' إلى 12'' بسبب التوسع السريع في صناعة الإلكترونيات الدقيقة، كما ارتفع عرض الأسلاك من 0.5um إلى 0.25um، 0 .18um، أو حتى 0.13um، سابقًا 99. نقاء الهدف بنسبة 995% يمكن أن يلبي متطلبات إجراء 0.35umIC، في حين أن 99 مطلوب لإعداد 0.18um الخط 99.9999% أو حتى 999%.
محتوى الشوائب: المصادر الرئيسية للتلوث للفيلم المترسب هي الشوائب في الهدف الصلب والأكسجين وبخار الماء في المسام. تختلف الأهداف لأسباب مختلفة وتتطلب محتويات شوائب متنوعة. على سبيل المثال، لدى قطاع أشباه الموصلات معايير محددة لتركيز العناصر المشعة والمعادن القلوية في الأهداف المصنوعة من الألومنيوم النقي وسبائك الألومنيوم.
الكثافة: عادةً ما تكون المادة المستهدفة مطلوبة ذات كثافة أعلى من أجل تقليل المسام الموجودة في المادة الصلبة وزيادة وظيفة الفيلم المرشوش. وتتأثر الخصائص الكهربائية والبصرية للفيلم أيضًا بكثافة المادة المستهدفة، بالإضافة إلى معدل الاخرق. يزداد أداء الفيلم مع كثافة الهدف. كما يتم تحسين قدرة المادة المستهدفة على تحمل الضغط الحراري أثناء عملية الاخرق من خلال زيادة كثافتها وقوتها. أحد مقاييس الأداء الرئيسية للهدف هو الكثافة.
