تتمتع أهداف الرش بالسبائك النيوبيومية (10%) والموليبدينوم بآفاق تطبيق واسعة في الخلايا الشمسية والشاشات ذات الأغشية الرقيقة. ومع ذلك، نظرًا لامتصاص الأكسجين بواسطة مسحوق النيوبيوم أثناء التلبيد، فإن خامة الموليبدينوم والنيوبيوم الملبدة تحتوي على نسبة عالية من الأكسجين وكثافة منخفضة. هذه المرة، تم تحضير مسحوق النيوبيوم مع طلاء كربون النيوبيوم عن طريق تفاعل بخار كيميائي في جو CH4.
لا تساعد طبقة الكربون النيوبيوم على منع امتصاص الأكسجين فحسب، بل يمكن أيضًا استهلاكها بالكامل عن طريق التفاعل مع الأكسجين عند درجة الحرارة المطلوبة.
تم دراسة تأثير طريقة التحضير ووسط التفاعل ومعامِلات التفاعل على أداء طبقة كربون النيوبيوم، وتم تحديد ظروف العملية المثلى على النحو التالي: درجة الحرارة 600 درجة، ووقت التفاعل 270 دقيقة، وضغط الغاز 0.04 ميجا باسكال.
تمت دراسة مورفولوجيا السطح والتركيب الكيميائي والتوزيع وتوحيد الطلاء باستخدام المجهر الإلكتروني الماسح، مطيافية الأشعة السينية الضوئية الإلكترونية، تحليل المسبار الإلكتروني، مطيافية رامان ومجهر القوة الذرية.
تم تحديد محتوى الأكسجين والكربون بواسطة أجهزة تحليل ONH وCS. تم خلط مسحوق النيوبيوم المعدل على السطح مع مسحوق الموليبدينوم وتم تسخينه تحت الفراغ للحصول على خامة Mo-10%Nb بمحتوى أكسجين 190 جزء في المليون ومحتوى كربون 290 جزء في المليون وكثافة نسبية 93%.
استخدامات أهداف النيوبيوم
تُستخدم أهداف رش النيوبيوم، باعتبارها المكون الرئيسي للنيوبيوم وأغشية سبائكه، على نطاق واسع في البيئات المقاومة للتآكل مثل الخلايا الشمسية وشاشات TFT LCD الملونة والعدسات البصرية والتصوير الإلكتروني وتخزين المعلومات وطلاء الزجاج، فضلاً عن النقل والإنتاج الكيميائي، إلخ.
تُستخدم اليوم أهداف رش النيوبيوم بشكل أساسي في طلاء الأسطح لشاشات اللمس المتقدمة وشاشات العرض المسطحة والزجاج الموفر للطاقة. ولها تأثير مضاد للانعكاس على شاشات الزجاج.
تتوفر أهداف النيوبيوم عالية النقاء بأشكال ودرجات نقاء وأحجام وأسعار مختلفة. يرجى استشارتنا للحصول على التفاصيل!
